高純氫氣發(fā)生器開(kāi)機(jī)后氧中氫溫度由10—200℃持續(xù)升高問(wèn)題分析：
1，檢查T(mén)C3
氧中氫監(jiān)測(cè)探頭。
A/查看內(nèi)部催化劑有無(wú)失效，
B/檢查連接線(xiàn)路有無(wú)需連現(xiàn)象。
C/查看PLC溫度模塊有無(wú)異常。
2，檢查氫氣捕集器
A/如高純氫氣發(fā)生器運(yùn)行停機(jī)在一個(gè)月以上需要對(duì)氫氣捕集器內(nèi)透水阻氣隔膜（石棉膜）進(jìn)行檢查，因停機(jī)比較久石棉膜會(huì)自身變干，不能全部潤(rùn)濕也會(huì)造成氫側(cè)氣體串入氧側(cè)，造成氧中氫溫度高的顯現(xiàn)。
B/石綿膜穿透造成氫氣氧氣混合。
以上原因必須檢查更換石綿膜。
3，檢查FC1流量控制器調(diào)節(jié)閥有無(wú)失效，
檢查流量計(jì)內(nèi)流量大小是否正常。正常值為75—100微量表值，如流量過(guò)大也會(huì)造成氧中氫溫度過(guò)高。
4，檢查T(mén)C4環(huán)境溫度熱電偶有無(wú)失效。
5，開(kāi)機(jī)后多次吹掃后有無(wú)改變。
6，檢查電解槽
對(duì)電解槽進(jìn)行穿透內(nèi)漏性實(shí)驗(yàn)，判斷電解槽有無(wú)內(nèi)漏。
7，如電解槽穿透內(nèi)漏性實(shí)驗(yàn)證明電解槽無(wú)內(nèi)漏，綜上所述所有分析點(diǎn)均檢查無(wú)異常，設(shè)備仍然有氧中氫溫度高現(xiàn)象產(chǎn)生，可以判斷氫氣發(fā)生器電解槽有輕微泄漏現(xiàn)象根據(jù)高純氫氣發(fā)生器運(yùn)行數(shù)據(jù)標(biāo)準(zhǔn)氧中氫溫度報(bào)警值200以?xún)?nèi)仍可以正常運(yùn)行，但運(yùn)行期間要對(duì)設(shè)備進(jìn)行定期巡查。
綜上所述，如有每一個(gè)分析點(diǎn)有設(shè)備問(wèn)題出現(xiàn)，都會(huì)造成高純氫氣發(fā)生器氧中氫溫度高報(bào)警停機(jī)。
